清溢光电:150nm工艺掩膜版已实现小规模量产

来源:爱集微 #清溢光电# #半导体# #掩膜版#
463

(文/罗叶馨梅)12月5日,清溢光电(688138.SH)在最新投资者关系活动记录表中披露,公司半导体掩膜版业务收入占比约为20%。公司佛山生产基地总投资35亿元,其中高精度平板显示掩膜版基地投资20亿元,高端半导体掩膜版基地投资15亿元。公司表示,将依托佛山基地进一步完善平板显示与半导体掩膜版“两条腿”业务布局。

在半导体芯片掩膜版技术方面,清溢光电已实现180nm工艺节点半导体芯片掩膜版的量产,并成功实现150nm工艺节点半导体芯片掩膜版的小规模量产。公司同时推进130nm-65nm节点PSM和OPC工艺掩膜版的开发,以及28nm半导体芯片所需掩膜版工艺开发规划。公司称,将围绕关键工艺持续提升精度与良率,逐步向更先进制程掩膜版拓展。

在客户拓展方面,公司半导体掩膜版业务代表性客户包括比亚迪半导体、芯联集成等。清溢光电表示,部分客户信息受保密协议约束,不便对外披露。公司认为,伴随国内晶圆厂对关键掩膜版国产替代需求提升,优质客户资源将为后续业务放量奠定基础。

清溢光电指出,目前半导体掩膜版的自主可控率在10%左右,国产替代空间巨大。公司强调,将在保持平板显示掩膜版市场领先优势的同时,加快半导体芯片用掩膜版产品布局。通过工艺技术迭代与产能投入,逐步提升本土供应能力与供应链安全性。

展望未来五年,公司提出明确发展目标:在国内平板显示用掩膜版市场保持份额第一,在全球平板显示用掩膜版市场份额“力争保三争一”;在半导体芯片用掩膜版领域,加速满足下游替代需求。清溢光电表示,将通过技术升级、产能扩张和客户深度合作,持续巩固行业竞争力并扩大市场影响力。

(校对/秋贤)

责编: 秋贤
来源:爱集微 #清溢光电# #半导体# #掩膜版#
THE END

*此内容为集微网原创,著作权归集微网所有,爱集微,爱原创

关闭
加载

PDF 加载中...