近日，由EDA²主办的第三届设计自动化产业峰会IDAS 2025（Intelligent Design Automation Summit 2025）在杭州国际博览中心盛大开幕。本届峰会以“锐进”为主题，秉持“开放创新，合作发展，互利共赢”宗旨，致力于搭建EDA及集成电路上下游高端交流合作平台。作为大会铂金赞助企业与EDA²理事长单位，东方晶源精彩亮相，通过圆桌论坛、专题论坛、展台互动等多元形式，与行业同仁围绕产业趋势洞察、关键技术创新、新生态构建等核心议题深入研讨。
9月14日，EDA² 2025年度会员大会同期召开，大会特设“协同破局，跨域融合，共创多元化 EDA 新未来”主题圆桌论坛。东方晶源董事长俞宗强博士与其他国内EDA领军企业负责人同台对话，聚焦领域协同创新、跨界融合路径与未来发展趋势，共探通过产业生态合作突破技术瓶颈、推动EDA多元化发展的实践方向，为集成电路行业持续进步注入新动能。
在晶圆制造论坛，东方晶源EDA战略产品总监张生睿发表《PanGen® Virtual FAB：AI Powered Patterning Model for Better Yield》主题演讲。基于对先进制程中图案化系统性良率挑战的深刻洞察，东方晶源提出“Virtual FAB”解决方案，核心在于提前仿真检测图案化热点以减少生产缺陷。演讲中，张生睿详解了支撑该方案的三大核心创新工具——DMC（Design Manufacturability Check）、PHD（Patterning Hot-spot Detection）、vPWQ（Etching Model for virtual PWQ）的研发思路与初步实践成果，展现出东方晶源在AI驱动图形建模与电子束量检测协同优化方面的领先布局。
展会期间，东方晶源展台人气高涨，工作人员围绕计算光刻平台PanGen®、良率管理平台YieldBook、PanGen DMC®、PanGen ILT®等热点产品与技术，与参观者深度交流。此外，融合企业HPO理念及产品信息的定制化“刮刮乐”活动热度不减，让观众在趣味互动中直观了解企业技术优势。
为期两天的IDAS 2025已圆满落幕，但东方晶源深耕EDA领域的步伐从未停歇。未来，东方晶源将持续深化计算光刻、良率管理等制造类EDA领域的技术研发，以更具创新性与前瞻性的解决方案破解客户痛点，为产业高质量发展持续赋能。
