1月15日，和远气体发布公告称，近日，公司取得了1项发明专利，专利名称为“一种半导体用超高纯氯化氢气体的制备装置及其工艺”，专利号为ZL202111321362.7。
公告显示，该发明专利是一种以工业产品气体为原料，采用高分子渗透膜、金属阳离子交换树脂、稀土金属化合物脱水与高压精馏的结合，可将组分中CO2杂质脱除至0.1ppm以下、金属离子含量脱除至10ppt以下；所述制备工艺摆脱了现有技术对原料的依赖，在生产超高纯氯化氢气体的同时产生多种品质的氯化氢气体，尾气减少的同时易于处理，适用于工业化推广。
和远气体表示，此项发明专利的取得，不会对公司的生产经营和经营业绩产生重大影响，但有利于公司在电子特气领域的技术储备与技术提升，对公司在电子特气领域进一步发展提供技术支持。
（校对/黄仁贵）
