苏大维格：28nm光刻机光栅尺周期精度需小于2nm，公司相关产品精度小于1nm

作者：李沛 2023-09-08

来源：爱集微 #光刻# #光栅# #苏大维格#

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据媒体报道，9月7日，苏州苏大维格科技集团股份有限公司（苏大维格，300331.SZ）在投资者互动平台回答了“贵司的光栅尺最高分辨率是多少? 精度是多少?”的提问，表示制程越先进，光刻机光栅尺的周期精度要求越高，如28nm制程的光刻机要求的光栅尺周期精度小于2nm，公司相关产品周期精度小于1nm，鉴于保密信息，详细参数暂不便透漏。

公开资料显示，苏大维格致力于微纳关键技术、柔性智能制造、柔性光电子材料的创新应用，涉及微纳光学印材、纳米印刷、3D成像材料、平板显示（大尺寸电容触控屏，超薄导光板）、高端智能微纳装备（纳米压印、微纳直写光刻、3D光场打印等）的研发与产业化， 2012年6月28日在深交所A股创业板上市，该公司今年7月曾在互动平台透露，公司向相关企业小批量提供了半导体领域投影式光刻机用的定位光栅尺部件，目前对应收入占比很小。